Zeiss Amplia Fábrica Alemã e Impulsiona Produção de Scanners EUV da ASML

Nova infraestrutura em Oberkochen visa suprir a crescente demanda por componentes ópticos essenciais.

Expansão Estratégica da Zeiss

A Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology está expandindo significativamente sua capacidade em Oberkochen, no sul da Alemanha. Um novo espaço de cerca de 25.000 metros quadrados para produção foi adicionado, com os primeiros funcionários já ocupando o edifício recém-concluído este mês, quatro anos após o início das obras em 2022.

A entrega dos edifícios restantes ocorrerá em fases. Oberkochen e Wetzlar são os únicos locais globais onde as colunas ópticas dos scanners de litografia da ASML podem ser fabricadas, e a capacidade da Zeiss SMT é um fator limitante para a produção da ASML.

A ASML anunciou planos para aumentar a produção de EUV Low-NA em aproximadamente 30% até 2027, destacando a importância desta expansão da Zeiss.

Parceria Crucial com a ASML

  • O relatório anual de 2025 da ASML revela que a Carl Zeiss SMT é sua única fornecedora de componentes ópticos essenciais (lentes, espelhos, iluminadores, coletores) sob um acordo exclusivo.
  • A dependência é tão grande que a interrupção prolongada da produção da Zeiss SMT “impediria efetivamente a ASML de conduzir seus negócios”.
  • As compras da ASML junto à Zeiss SMT e suas subsidiárias atingiram €4,41 bilhões em 2025, um aumento significativo em relação aos €3,95 bilhões em 2024 e €3,33 bilhões em 2023.

Aumento da Demanda e Otimização da Produção

Roger Dassen, CFO da ASML, confirmou que a demanda por EUV Low-NA para 2027 está quase totalmente reservada. A empresa está elevando a capacidade em cerca de 30% (de aproximadamente 65 sistemas este ano) e avalia um novo aumento de 30% para 2028.

Além disso, a ASML está otimizando seu ciclo de construção de scanners, reduzindo-o de 22 semanas para 15 ou 16. Há indicações de que a ASML planeja aumentar os preços das máquinas EUV Low-NA, uma medida que teria desagradado a TSMC.

Complexidade da Óptica High-NA

Os sistemas ópticos de projeção High-NA são extremamente complexos:

  • Contêm mais de 40.000 peças e pesam cerca de 12 toneladas (7 vezes o volume e peso da óptica EUV padrão).
  • O sistema de iluminação adiciona 25.000 peças e 6 toneladas.
  • Espelhos High-NA individuais pesam centenas de quilos, com o dobro do tamanho e 10 vezes o peso dos espelhos EUV atuais.
  • A usinagem desses espelhos leva meses para atingir a precisão necessária.
  • A verificação exige uma câmara de vácuo especial de 5×10 metros, com mais de 100.000 peças e 150 toneladas.

A Intel já começou a enviar lógica de alto volume em scanners 0.55 NA este mês. A expansão de espaço físico, no entanto, não acelera essas etapas de fabricação complexas.

Investimentos e Financiamentos da ASML na Zeiss

A ASML tem um investimento significativo na Zeiss SMT:

  • €1,91 bilhão em empréstimos a receber da Zeiss SMT no final de 2025 (contra €1,44 bilhão no ano anterior).
  • €1,19 bilhão em adiantamentos para garantir entregas de colunas ópticas.
  • Duas linhas de crédito de €1 bilhão (setembro de 2021 e setembro de 2024).
  • Empréstimo adicional de €444 milhões (julho de 2025) e €212,5 milhões em empréstimo de curto prazo (novembro).

O acordo-quadro de maio de 2025 tornou os empréstimos de capital livres de juros, com prazos de reembolso de sete ou 15 anos e parcelas trimestrais variáveis conforme a receita da Zeiss SMT.

Crescimento e Expansão Contínua da Zeiss SMT

A Zeiss SMT registrou €5,055 bilhões no ano fiscal encerrado em 30 de setembro de 2025, um aumento de 23% e o maior entre os quatro segmentos do Grupo Zeiss.

Outras iniciativas de expansão incluem:

  • Construção de uma fábrica multifuncional em Wetzlar.
  • Adição de 300 metros quadrados de sala limpa em Rossdorf no outono passado.
  • Abertura de um centro de inovação na Coreia este mês.
Baseado no artigo de Tom’s Hardware