A Reuters identificou a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group como a fabricante estatal dos primeiros scanners de litografia ultravioleta profunda (DUV) de imersão domésticos da China.
Fundada em agosto de 2023 com um capital de RMB 7 bilhões (cerca de US$ 1 bilhão), a Aishengna teria absorvido equipes de engenharia da Shanghai Yuliangsheng Technology e Shanghai Micro Electronics Equipment.
Embora a nomeação da Aishengna venha de uma única fonte anônima e seus acionistas não tenham comentado, a SMIC tem testado uma ferramenta de imersão da Yuliangsheng desde setembro de 2025.
As primeiras entregas estão programadas para a SMIC, Hua Hong Semiconductor e ChangXin Memory Technologies (CXMT).
A Tokyo Electron dominava 89% do mercado global de coater/developer em 2022. O scanner apenas expõe o wafer; o track é responsável por aplicar o filme de resist, assar e desenvolver o padrão.
Ambos são comprados juntos, exigindo compatibilidade mecânica e térmica. A Shenyang Kingsemi atingiu capacidade de 28nm e visa 14nm para tracks.
No mercado de fotoresist ArF, fornecedores como JSR e Fujifilm detêm 72,5%, enquanto fornecedores chineses possuem menos de 1% para resist de imersão ArF.
A Nata Opto-electronic qualificou sua linha ArF, mas com baixo volume. A Xuzhou B&C tem produtos de imersão ArF para 45nm a 28nm (e potencialmente 14nm), mas a produção em massa de resists avançados na China ainda está a cinco anos de distância.
Mais de 80% do mercado de lasers excimer ArF é dominado por Cymer (subsidiária da ASML), Gigaphoton e Coherent.
A Beijing RSLaser enviou o primeiro laser excimer doméstico de alta potência da China em 2018, mas seu protótipo de 193nm ArF para 90nm e 65nm está gerações atrás do necessário para a imersão de 28nm.
A Carl Zeiss SMT é a única fornecedora de óptica de projeção da ASML desde 1983, com receita crescente.
Não se sabe se há ferramentas japonesas nas máquinas da Aishengna, mas fontes excimer e ópticas de precisão são áreas onde a substituição chinesa é deficiente.
A CXMT deve atingir 350.000 inícios de wafer por mês até o final de 2026. A expansão da DRAM em nós 1a e 1b depende de multipatterning de imersão, pois a CXMT não tem acesso a EUV.
Uma fonte de imersão doméstica é valiosa para a CXMT, mesmo com sobreposição e rendimento inferiores, dada a disparada dos preços da DRAM.
Um fluxo de 7nm apenas com DUV exige aproximadamente 19 máscaras de multipatterning, em comparação com cerca de 10 para um processo baseado em EUV.
A densidade de defeitos da SMIC para 7nm é quase o dobro da TSMC. Compensar a falta de EUV com mais exposições DUV consome horas de scanner que a limitada frota doméstica chinesa não possui.
A participação da China nas vendas da ASML caiu de 33% em 2025 para 14% no segundo trimestre de 2026.
A proposta de lei H.R. 8170 visa proibir a exportação e manutenção de sistemas DUV de imersão para a China, designando várias empresas chinesas como entidades restritas.
Isso impactaria a capacidade da ASML de realizar manutenção com peças de origem americana, conforme controles de exportação.
A proposta de lei ainda está em comissão, com uma cláusula de 150 dias de alinhamento aliado que poderia afetar a Nikon.
A ASML prevê cerca de 130 embarques de imersão este ano e planeja aumentar sua capacidade em 30% em 2027 e mais 30% em 2028, evidenciando a demanda global por essa tecnologia.
Provedores chineses como a SMEE prototiparam ferramentas ArF em 2011 sem sucesso comercial sustentado, e alegações de máquinas de 28nm foram retratadas.
A SiCarrier exibiu outras ferramentas, mas sem sistemas de litografia avançados. A avaliação é que os fabricantes de ferramentas da China estão mais de uma década atrás dos líderes de mercado globais.
O AI Futures Project prevê um scanner de imersão doméstico viável para 7nm entre 2032 e 2038, com a ASML detendo 98,7% do mercado.
Mesmo com cinco máquinas em 2026 (menos de 4% da produção da ASML), a China ainda precisa de tracks de coater, resist de imersão ArF qualificado e fontes excimer – áreas nas quais o país ainda não lidera.