A Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology está expandindo significativamente sua capacidade em Oberkochen, no sul da Alemanha. Um novo espaço de cerca de 25.000 metros quadrados para produção foi adicionado, com os primeiros funcionários já ocupando o edifício recém-concluído este mês, quatro anos após o início das obras em 2022.
A entrega dos edifícios restantes ocorrerá em fases. Oberkochen e Wetzlar são os únicos locais globais onde as colunas ópticas dos scanners de litografia da ASML podem ser fabricadas, e a capacidade da Zeiss SMT é um fator limitante para a produção da ASML.
A ASML anunciou planos para aumentar a produção de EUV Low-NA em aproximadamente 30% até 2027, destacando a importância desta expansão da Zeiss.
Roger Dassen, CFO da ASML, confirmou que a demanda por EUV Low-NA para 2027 está quase totalmente reservada. A empresa está elevando a capacidade em cerca de 30% (de aproximadamente 65 sistemas este ano) e avalia um novo aumento de 30% para 2028.
Além disso, a ASML está otimizando seu ciclo de construção de scanners, reduzindo-o de 22 semanas para 15 ou 16. Há indicações de que a ASML planeja aumentar os preços das máquinas EUV Low-NA, uma medida que teria desagradado a TSMC.
Os sistemas ópticos de projeção High-NA são extremamente complexos:
A Intel já começou a enviar lógica de alto volume em scanners 0.55 NA este mês. A expansão de espaço físico, no entanto, não acelera essas etapas de fabricação complexas.
A ASML tem um investimento significativo na Zeiss SMT:
O acordo-quadro de maio de 2025 tornou os empréstimos de capital livres de juros, com prazos de reembolso de sete ou 15 anos e parcelas trimestrais variáveis conforme a receita da Zeiss SMT.
A Zeiss SMT registrou €5,055 bilhões no ano fiscal encerrado em 30 de setembro de 2025, um aumento de 23% e o maior entre os quatro segmentos do Grupo Zeiss.
Outras iniciativas de expansão incluem: