Um novo relatório da BlueFin Research Partners (via @jukan05) sugere que a Intel resolveu as questões de variabilidade de rendimento wafer-a-wafer em sua tecnologia de processo 18A. Se confirmado, isso significa melhorias de rendimento consistentes e previsíveis para os produtos que utilizam este nó de 1.8nm.
Embora a correção seja um passo gigante, é importante notar que a variabilidade wafer-a-wafer é apenas um dos fatores que influenciam o rendimento total. Outros elementos cruciais incluem:
O relatório também indica que a Intel alcançou uma capacidade impressionante de cerca de 30.000 inícios de wafer por mês. Isso é dividido entre sua fábrica de desenvolvimento D1X (Oregon) e a fábrica de alto volume Fab 52 (Arizona).
A Intel já planeja a próxima geração: o processo de fabricação 14A (1.4nm). A D1X será a primeira fábrica HVM (High-Volume Manufacturing) para o 14A, com a primeira fase da nova unidade Intel Ohio One servindo como a segunda instalação HVM a partir de 2030-2031.
Fique atento às próximas notícias sobre os avanços da Intel!